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画的作者是谁 画的作者是高鼎吗 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  画的作者是谁 画的作者是高鼎吗金融界4月24日消息,国家(jiā)知识产权局局长申(shēn)长(zhǎng)雨在新(xīn)闻发布会上表示,将(jiāng)统筹(chóu)推进(jìn)各类知识(shí)产权法(fǎ)律(lǜ)法规和制度规则的制修订工作。其中,修改完善集成电(diàn)路(lù)布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展(zhǎn)需要(yào),助(zhù)力芯片产业(yè)做大做强,服务(wù)数字(zì)经济更好发展。

  加强大数据、人工智能、基因技(jì)术等新领域新业(yè)态(tài)知识(shí)产权规(guī)则研(yán)究,助力相关领域创(chuàng)新发(fā)展。同(tóng)时,积极(jí)参(cān)与知识(shí)产权(quán)国(guó)际规则制定(dìng),更好对(duì)接高标准国(guó)际经贸规则,助力高水(shuǐ)平对外开(kāi)放(fàng)。

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