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　　美光公司在华销售的产品未通(tōng)过网络安全(quán)审(shěn)查(chá)

　　据网信办消息，日前，网络安全审查办公室依(yī)法对美(měi)光公司在华销售(shòu)产品进行了网(wǎng)络安全审(shěn)查(chá)。

　　审(shěn)查(chá)发现，美光公(gōng)司产品(pǐn)存在较严重网络安全问题隐(yǐn)患，对我国(guó)关键(jiàn)信息基础设施供(gōng)应链造成(chéng)重(zhòng)大安(ān)全风险，影响我国国家(jiā)安全。为此，网(wǎng)络安全(quán)审查(chá)办(bàn)公室依法作出不予通过网络安全审查的(de)结论。按照《网络安全法》等法律法规，我国内关键(jiàn)信(xìn)息基础(chǔ)设施的(de)运营者应(yīng)停(tíng)止采购美光公(gōng)司(sī)产(chǎn)品。

　　此次对美光公司产品进行网(wǎng)络安全审(shěn)查，目的是(shì)防范产(chǎn)品网(wǎng)络安(ān)全问(wèn)题危害(hài)国家关键信息基础设施安全(quán)，是维护国家安全(quán)的必要措施。中(zhōng)国坚定推进高(gāo)水平对外开(kāi)放(fàng)，只要遵守(shǒu)中国法律(lǜ)法规要求，欢迎各国(guó)企业、各类平台产品服务(wù)进(jìn)入中国(guó)市场。

　　3月(yuè)31日(rì)，中国网信(xìn)网发文称(chēng)，为保障关键信息(xī)基础设施(shī)供(gōng)应链安全，防范产品问题隐患造成网络安(ān)全风(fēng)险，维护国家安(ān)全，依据(jù)《中华人民(mín)共和国国家安全法》《中(zhōng)华人民共(gòng)和国网络安全法(fǎ)》，网络(luò)安全审查办公室按照《网(wǎng)络安全审查(chá)办法》，对美光公(gōng)司（Micron）在(zài)华销售的产品实施网络(luò)安全审查(chá)。

　　美光是(shì)美国的存储芯片行(xíng)业(yè)龙头(tóu)，也是全球存(cún)储(chǔ)芯(xīn)片巨头(tóu)之一，2022年收入来自中国市场(chǎng)收入从此前高峰(fēng)57％降至(zhì)2022年约11％。根据市场(chǎng)咨询机(jī)构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三(sān)星电子、 铠(kǎi)侠、西部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在(zài)全球 NAND Flash （闪存）市场(chǎng)份额约为 96.76％，三星电子、 SK 海力士、美(měi)光在全球 DRAM （内存）市场(chǎng)份额约为(wèi) 94.35％。

　　A股上市公司(sī)中，江波龙、佰维存储等(děng)公(gōng)司披(pī)露过(guò)美(měi)光等国际存(cún)储厂商为(wèi)公司供(gōng)应蒂玮娜手表是杂牌吗，蒂玮娜手表一千多值得买吗(yīng)商。

　　美光在江波龙采(cǎi)购(gòu)占比(bǐ)已经(jīng)显(xiǎn)著下降，至少已经不是主要大供应商。

　　公告显示(shì)， 2021年(nián)美光位列江波龙第一大存储晶圆(yuán)供应商(shāng)，采购约31亿(yì)元(yuán)，占比33.52％；2022年，江波龙第一大、第二大和第三(sān)大(dà)供应商采购金额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江(jiāng)波龙(lóng)已经在存储产业(yè)链上下游建(jiàn)立国内外广泛(fàn)合作。2022年年报显示，江波龙(lóng)与三星(xīng)、美光、西部数(shù)据等主要存储晶(jīng)圆原厂签(qiān)署了(le)长期合约，确保存储(chǔ)晶圆供应(yīng)的稳(wěn)定(dìng)性(xìng)，巩固公司在(zài)下游(yóu)市场的供(gōng)应优(yōu)势，公司(sī)也与国内(nèi)国(guó)产(chǎn)存储晶圆(yuán)原厂武汉(hàn)长江存储、合(hé)肥长鑫保持良好的(de)合(hé)作。

　　有(yǒu)券商此前就(jiù)分(fēn)析，如果美光(guāng)在中国区销售受(shòu)到限制，或(huò)将导致下游客户转而采购国外三星、 SK海力(lì)士，国(guó)蒂玮娜手表是杂牌吗，蒂玮娜手表一千多值得买吗内长江(jiāng)存储、长(zhǎng)鑫存储等(děng)竞对产品

　　分析称，长存、长(zhǎng)鑫的上(shàng)游设(shè)备厂或从中(zhōng)受益。存储器的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的(de)工艺。另(lìng)外NAND Flash现在已经进入3D NAND时(shí)代，2 维到3维的(de)结(jié)构(gòu)转变(biàn)使刻蚀和(hé)薄(báo)膜成为最关键(jiàn)、最(zuì)大量的(de)加工设备。3D NAND每(měi)层均需要经过薄膜(mó)沉(chén)积工艺(yì)步骤，同时(shí)刻(kè)蚀目前前沿要刻到 60：1的深孔，未来可能会更深的孔或者(zhě)沟槽(cáo)，催生更多设备需求。据东京电子披露，薄(báo)膜沉积设备及刻蚀占3D NAND产线(xiàn)资本开支合计为(wèi)75％。自长江存(cún)储(chǔ)被(bèi)加入美国限(xiàn)制名(míng)单，设备国产化进程加速，看好(hǎo)拓荆科技(jì)（薄膜沉积(jī)）等相关公司份额提升，以及(jí)存储业务(wù)占比(bǐ)较高的(de)华海清科（CMP）、盛美上海（清洗）等(děng)收入(rù)增长(zhǎng)。

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