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fio2吸氧浓度计算公式中的4是什么意思,氧合指数的计算公式 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

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  金融(róng)界4月24日消息,国家知识(shí)产权局局(jú)长申长雨在新(xīn)闻发布会(huì)上表示,将统(tǒng)筹推(tuī)进各类(lèi)知识(shí)产权法律(lǜ)法规和制(zhì)度规(guī)则的(de)制(zhì)修订工作。其中,修改完善集(jí)成电路布(bù)图(tú)设计保护条例,适应大规(guī)模集(jí)成电路发展需(xū)要,助力芯片产业做大(dà)做强,服务数字经(jīng)济更好发(fā)展。

  加(jiā)强大(dà)数据、人工智能(néng)、基(jī)因技术等新领域新业态(tài)知识产权规则研究,助力相(xiāng)关领域创新发展(zhǎn)。同(tóng)时,积极参与知识产权国际规则制定,更好对接高(gāo)标准国际经贸规则,助力高水平对外(wài)开放。

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